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Parque Tecnológico da UFRJ é finalista em prêmio internacional
16/07/2019

A Galeria Curto Circuito de Arte Pública, localizada no Parque Tecnológico, é uma das dez finalistas do prêmio Inspiring Solutions, da Associação Internacional de Parques Tecnológicos e Áreas de Inovação (Iasp). Feito em parceria com a Escola de Belas Artes (EBA), o projeto vem transformando o Parque em espaço de experimentações em arte, tecnologia e inovação. A UFRJ concorre com iniciativas de países como China, Áustria, Estados Unidos e Estônia. Além do Rio de Janeiro, o Rio Grande do Sul representa o Brasil na premiação.

A PR-2 esta na torcida para que o Parque Tecnológico da UFRJ conquiste o prêmio Inspiring Solutions, da Associação Internacional de Parques Tecnológicos e Áreas de Inovação (Iasp)

Fonte da notícia: Site UFRJ (Adaptada) e da foto: Diogo Vasconcellos (Coordcom/UFRJ)

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Clique aqui para ler na íntegra nota que saiu no site da FAPERJ 'Galeria do Parque Tecnológico da UFRJ é finalista no prêmio 'Inspiring Solutions'

Clique aqui para ler na íntegra a notícia 'Galeria carioca é uma das finalistas de prêmio internacional' que saiu no site da Empresa Brasil de Comunicação

Notícia atualizada em 13/08/2019